Variabilité des longueurs de liaisons Si, AlT-O dans les silicates lamellaires

Résumé En Fr

The role of crystal chemistry parameters (i. e. unit cell size, tetrahedron flattening, di-trigonal rotation angle...) in the variations of Si, AlT-O bond lengths in di-and trioctahedral layer silicates is established. The effect of Si-Al ordering is shown. In well refined structures, it is shown that the same-sheet tetrahedra are not equivalent and furthermore there is no equivalence between both tetrahedral layer in a same layer.

L'article établit le rôle des facteurs cristallochimiques (paramètres de maille, aplatissement des tétraèdres, angle de rotation ditrigonale, etc.) qui paraissent responsables de la variabilité des longueurs des liaisons Si, AlT-O dans les structures des silicates lamellaires di- et trioctaédriques. Les auteurs montrent l'effet de la présence d'un ordre dans les substitutions isomorphiques Si-Al. En particulier, il est mis en évidence que, dans certains cas de structures bien affinées, non seulement tous les tétraèdres d'une même couche ne sont pas équivalents, mais qu'il n'y a pas d'équivalence entre les deux couches tétraédriques d'un même feuillet.